EVG、フォトニクスなど向け次世代ナノインプリントリソグラフィ技術を発表

ソリューションでは、200mm基板で時間当たり40枚以上のスループットを実現できるという。また、ソフトスタンプ複製を装置内に統合させることにより、クリーンルーム内で省スペースを実現している他、高速スタンプ複製機能では10分以下で複製が完了する。さらに、反りウェハの影響を受けにくく、高段差構造に対するパターニングが可能である。そして、最適化された離型特性によりスタンプ寿命を延長するのに加え、セルフクリーニング機能によりパーティクル汚染を減少させ、プロセス全般の歩留まりを改善する。この他、室温プロセスにより、温度のミスマッチと長い構造体の歪みを回避し、アライメント精度を向上させるとしている。