Lam Research、ALD装置とコンダクタエッチング装置を発表

米Lam Researchは7月7日(米国時間)、コンダクタエッチング装置「2300 Kiyo F Series」とALD装置「VECTOR ALD Oxide」を発表した。

半導体メーカーは、光リソグラフィの制限の補正のために、二重および四重パターニングスキーマを使用している。これらの技法では、目標の寸法にするためにリソグラフィ/エッチング/蒸着ステップを組み合わせて繰り返し、大型の密度の少ないパターンを印刷してから、サイズとスペーシングを縮小することで、単一パターニングで可能なサイズよりも、小型の機構を作成することができる。しかし、プロセスステップ数が増加することで、各ステップごとに全体の不均一性が高くなり、変動の問題が深刻化する。このような複合効果があるため、デバイスを意図した通りに機能させるには、エッチングと蒸着の変動許容度を厳しくする必要がある。また、変動によりデバイス性能、消費電力、および歩留りに影響が出て、再作業によるコストと時間の無駄が発生する場合があるので、プロセス制御は不可欠である。さらに、プロセスステップの追加による生産コストの増加を軽減するには、変動制御に加えて、高い生産性も必要である。