くらし情報『EVG、フォトニクスなど向け次世代ナノインプリントリソグラフィ技術を発表』

2014年10月23日 10:00

EVG、フォトニクスなど向け次世代ナノインプリントリソグラフィ技術を発表

EVG、フォトニクスなど向け次世代ナノインプリントリソグラフィ技術を発表
EV Group(EVG)は10月22日、大面積のソフトナノインプリントリソグラフィ(NIL)プロセス「SmartNIL」を発表した。

太陽光発電、LED、レーザダイオード、光学センサなどのフォトニックデバイスや、バイオ工学用途では、ナノスケール構造を従来の電子線などで描画すると、処理性能が低いため、コスト効率の高い生産に対応して規模を拡大するのは容易ではなかった。また、光リソグラフィ用のステッパ装置などを使えば、処理性能は十分なものの、コストが高過ぎるという問題がある。このため、フォトニックデバイスおよびバイオ工学特定用途では、単一工程で3次元構造(異なる高さを備えた形状)を形成する加工能力が求められていた。この課題に対し、同技術は、150mm以下の基板サイズ向け「EV720」システム、および200mm基板対応の「EVG7200 」システムと組み合わせることにより、フォトニックデバイスとバイオデバイスの量産で要求されるコスト効率性の高いプラットフォームにおいて、高解像度、高アライメント精度、高スループットの3つの要件を最適な形で実現できるとしている。

具体的には、最大200mmの基板全面への一括インプリントが可能で、量産用途向けの全面基板「UV-NIL」

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