Entegris、CMPプロセスで発生するAMCを除去するフィルタを発表
同製品は、半導体製造における化学機械平坦化プロセス(CMP)において、弱酸や他の汚染物質といったAMCを除去するオールインワンシングルフィルタソリューションとして開発されたものである。CMPツールに特化して設計されており、複数のフィルタを取り扱う煩雑さをなくし、シングルフィルタですべてのAMCに対応する。さらに、「VaporSorb」シリーズにおいて最も長寿命を有し、装置のダウンタイムとコストオブオーナーシップを削減する。
なお、「VaporSorb」シリーズでは、アプリケーションやファブ固有のフィルタソリューションをカスタマイズして作製できるとしている。
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