EVG、ナノインプリントリソグラフィコンピテンスセンターを設立
同センターは、同社のNILソリューションを活用できるように設計されており、ユーザーがフォトニクスの分野において、新しい機能の製品とアプリケーションを実現できるようにサポートしていくという。NILで形成されたフォトニック構造には、光の取り出し効率を改善できるLEDや、光の取り込み効率を改善できる太陽電池、またはレーザダイオードなどが含まれ、フォトニック構造によりデバイス特性を調整して、性能の向上を図ることができるという。
なお、NIL Photonicsコンピテンスセンターでは、オーストリアのEVG本社だけでなく、北米および日本の子会社の最先端クリーンルームにて、専属プロセスチームによるグローバルサポート、パイロットラインの生産設備とサービスが利用できるとしている。
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