SEMICON Japan 2014 - 会期中にブースでのCMOSトランジスタの製造実現に挑むミニマルファブ
同組合は、産業技術総合研究所が設立し、2012年度から3年間の研究開発期間にて、ハーフインチウェハを製造基板単位とした新たな半導体製造生産システムの実現を目指すことを目的としている。
昨年のSEMICON Japan 2013ではクリーンルームがない会場にて、実際にPMOSトランジスタの製造を達成していたが、今年はPMOSとNMOSを組み合わせたCMOSトランジスタの製造を3日間の会期中に実現しようという試みを進めている。
プロセスとしては1μmと、現在の最先端プロセスに比べれば太いものの、まずは技術を確立させることが目的であり、これにより、日本はもとより、アジアでも東欧でもどこでも手軽に半導体デバイスを製造することが可能になる。電源も各装置ともにAC100Vを用いており、各装置の内部を局所的にクリーン化しているため、クリーンルームが不要となるため、究極な話をすれば、家庭内でもICの製造が可能となる。
今回のCMOSトランジスタの製造はそうした夢の実現に向けた一歩であり、将来的には電子ビーム(EB)による直接描画などを活用することで微細化にも対応ができるようになるとのことであった。
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