SEMICON Japan 2014 - 10nmにArF液浸のマルチパターニングで挑むニコン
NSR-S630Dは投影レンズ性能の向上とレチクルステージ位置計測のエンコーダ化、温空調システムの改良により、MMO(Mix and Match Overlay:同一機種間の重ね合わせ精度)を2.5nm以下にしつつ、毎時250枚以上(96shots)のスループットを実現した露光装置。
1Xnmクラス向けに開発されたものだが、レチクルや照明系の改造により10nmプロセスにも対応できるめどがついているという。また、10nmプロセスを実現する際のパターニング回数も6回という話もあるが、ブース説明員によれば、その回数は現状では考え難いとのことで、おそらくクアッドパターニング(4回)で実現されることになるのではないかとしていた。
なお、同社ブースでは、露光装置の紹介のほか、ニコン熊谷製作所にて行われた450mmウェハに実際に露光を行った実物の展示も行われている。この450mmウェハ対応露光装置は2015年4月にAlbanyに出荷される予定だという。
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