KLA、5Dパターンコントロールソリューションを拡張

KLA-Tencorは、16nmプロセス以下のICデバイスの開発および量産をサポートする新たな計測装置として、オーバーレイ計測装置「Archer 500LCM」と膜計測装置「SpectraFilm LD10」を発表した。

Archer 500LCMは、イメージングおよび独自のレーザベースのスキャトロメトリ測定技術の両方を装備するほか、さまざまな計測オプションが用意されており、ダイ内、微細なピッチ、多層ターゲットなどの多種多様なオーバーレイ測定ターゲットのデザインをサポートする。スキャナ補正やインライン異常の特定に使用できる正確なオーバーレイのデータを効率よく生成。

歩留まり改善のあらゆる段階を通してオーバーレイ誤差の正確なフィードバックを提供し、半導体メーカーが、マルチパターニングやスペーサピッチ分割などの新規パターン形成手法に関連するオーバーレイの問題を解決する支援をする。

SpectraFilm LD10では、膜の厚さおよび膜ストレスを正確に測定し、FinFET、3D NANDおよびその他の最先端デバイスの製造で使用される膜および積層膜の特性管理およびプロセスモニタが可能。

レーザ励起のプラズマ光源が組み込まれており、FinFETなどの複雑なデバイス構造、形成に使用される薄膜多層積層膜を含めた幅広いアプリケーションに対応し、信頼性の高い精密な膜厚測定データを生成する。新しく搭載された赤外波長のサブシステム技術により、3D NANDフラッシュデバイスなどで使用される厚い多層積層膜の特性評価が可能。旧世代の「Aleris」プラットフォームに比べてスループットが大幅に向上し、高い生産性を維持しながら、複数のパターン形成プロセスや他の最先端の製造プロセスに関連する多くの積層膜を計測する。

Archer 500LCMおよびSpectraFilm LD10、CDおよびプロファイル計測のプラットフォームを持つ「SpectraShape 9000」、高度なデータ解析処理機能を持つ「K-T Analyzer」、その他の多くのプロセス制御装置と統合されて、KLA-Tencorの包括的な5Dパターンコントロールソリューションをサポートする。