Lam Research、高生産性を実現した成膜装置「VECTOR ALD Oxide」を発売

Lam Researchは7月13日(米国時間)、同社のALD製品として、高生産性を実現した「VECTOR ALD Oxide」を発表した。

同装置は、最先端のパターン生成工程、特に側壁スペーサを用いたマルチパターニングへの適用を想定して開発されたALDで、高い微細寸法(critical dimensions:CD)制御性により、側壁スペーサの膜厚変動を抑制することを可能にしつつ、高いスループットも実現したとする。

具体的には、14nm以降のパターン生成では、自己整合型ダブルパターニング(self-aligned double patterning:SADP)や自己整合型4倍パターニング(self-aligned quadruple patterning:SAQP)などの自己整合側壁スペーサを用いたマルチパターニングが用いられるが、その実現に要求される数オングストロームの面内膜厚変動を維持しつつ、4ステーションのモジュールが4枚のウェハを同時処理することでスループットの向上も果たしたとする。また、コンパクト設計により、設置面積当たりの生産性は従来方法比で最高で20%向上するとしているほか、ガスとRFの切り替えを高速に行えるよう、ハードウェアは最適化されており、プリカーサ(前駆体)