imecが10億ユーロを投じ7～5nmプロセス開発向けクリーンルーム棟を開所

●10億ユーロを投資し、次世代半導体プロセスの開発を本格化
ベルギーの独立系半導体ナノエレクトロニクス研究機関であるimecは、同国ルーベン(Leuven)郊外の小さな町Heverleeにある同社本部キャンパス(図1)内にかねてより建設中であった新しい300mmクリーンルーム(床面積4000m2)を2016年3月に開所した(図2)。

次々世代の半導体プロセスとなる7nm、そしてその後の5nmプロセスを用いたデバイスを開発するためには、デバイスそのものの構造や使用する材料が大きく変わってくるため、新たな半導体製造装置を一式揃えなければならず、それらの装置を設置する場所として新たなクリーンルームの建設が求められていた。こうした背景からimecでは、既設の450mm-ready 300mmクリーンルーム(天井の高さや床荷重を450mm装置対応に設計されたが、当面は300mmウェハ処理用に使われるクリーンルーム。図3、図4)の隣接地に対応クリーンルームを新たに建設した。

imecの社長兼CEOであるVan den hove氏は、新クリーンルームの開所式で「imecは、1984年に設立以来、高い目標を掲げ、世界最大の独立系ナノエレクトロニクス研究センターに成長してきたが、この成功は、世界のトップクラスの半導体メーカーを含む幅広い国際的な協業ネットワーク、世界トップレベルの卓越した科学者・技術者集団、そしてimecの誇るインフラよるところが大きい。