AMAT、原子レベルの精度で副生成物の除去を実現したエッチング装置を発表

Applied Materials(AMAT)は7月13日(米国時間)、原子レベルの精密加工を実現する新型チャンバを搭載した次世代エッチング装置「Applied Centris Sym3」を発表した。

同装置は、同社のこれまでのノウハウと精密除去技術における専門知識をもとに、新たな設計構造を採用して開発されたもの。エッチングチャンバは、独自のTrue Symmetry技術を採用しており、複数の調整制御によってプロセス全体の均一性を原子レベルで最適化することを可能とした。また、チップ内のパターニング均一性を阻害する要因として問題視されるようになってきたエッチング副生成物の制御と除去として、副生成物の再付着を低減することで、微細化の制約となるラインエッジラフネス、パターンローディング、欠陥の課題を克服することを可能としたとする。

また、プラットフォーム上に設置される6つのエッチングチャンバと2つのプラズマ洗浄チャンバには、システムインテリジェンスソフトウェアが搭載されており、各チャンバ間の全プロセスを精密にマッチングさせることで、高い再現性と高い生産性を可能にするとしている。