Entegris、CMPプロセスで発生するAMCを除去するフィルタを発表

Entegrisは11月13日(米国時間)、空気中の分子状汚染物質(AMC)を除去するフィルタ「VaporSorb」シリーズの新製品を発表した。

同製品は、半導体製造における化学機械平坦化プロセス(CMP)において、弱酸や他の汚染物質といったAMCを除去するオールインワンシングルフィルタソリューションとして開発されたものである。CMPツールに特化して設計されており、複数のフィルタを取り扱う煩雑さをなくし、シングルフィルタですべてのAMCに対応する。さらに、「VaporSorb」シリーズにおいて最も長寿命を有し、装置のダウンタイムとコストオブオーナーシップを削減する。

なお、「VaporSorb」シリーズでは、アプリケーションやファブ固有のフィルタソリューションをカスタマイズして作製できるとしている。