AMATとA*STAR、シンガポールに先進半導体技術の共同研究開発施設を設置

Applied Materials(AMAT)は10月19日(シンガポール時間)、シンガポール科学技術研究庁(Agency for Science, Technology and Research:A*STAR)と共同でシンガポールに新たな研究開発施設を設置すると発表した。

同施設は、次世代のロジックやメモリの製造に向けた半導体技術の開発を行うことを目的に、両者が合計で1億5000万シンガポールドルを出資する形で設立されるもの。広さ400m2のクラス1クリーンルームがA*STARの新R&D複合施設「フュージョノポリス2(Fusionopolice Two)」内に新たに設置され、AMATが新規に設計、製造した半導体装置を導入し、研究者や科学者60名が、A*STAR傘下のほかの研究所とも連携して研究を行っていく予定。

具体的には、A*STAR傘下のマイクロエレクトロニクス研究所(IME)、材料研究・工学研究所(IMRE)、ハイパフォーマンスコンピューティング研究所(IHPC)が、低欠陥プロセス、極薄膜材料、材料分析・特性評価、多分野にまたがるモデリング/シミュレーションなどの研究に協力する予定だという。