くらし情報『慶応大、新物質「金属内包シリコンナノクラスタ」の合成と薄膜化に成功』

2014年10月9日 18:55

慶応大、新物質「金属内包シリコンナノクラスタ」の合成と薄膜化に成功

を気相合成した。さらに、炭素フラーレン(C60)で表面修飾した基板上にTa@Si16ナノクラスタを蒸着し、C60とTa@Si16ナノクラスタの共有結合により複合体化することで、Ta@Si16ナノクラスタを固体表面に固定し薄膜化することに成功した。このとき、ナノクラスタの構造と荷電状態が薄膜化前と変わらずに保持されていることも、実験と理論の両面から実証したとしている。

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