くらし情報『SEMICON Japan 2014 - 10nmにArF液浸のマルチパターニングで挑むニコン』

SEMICON Japan 2014 - 10nmにArF液浸のマルチパターニングで挑むニコン

で実現されることになるのではないかとしていた。

なお、同社ブースでは、露光装置の紹介のほか、ニコン熊谷製作所にて行われた450mmウェハに実際に露光を行った実物の展示も行われている。この450mmウェハ対応露光装置は2015年4月にAlbanyに出荷される予定だという。

関連記事
新着くらしまとめ
もっと見る
記事配信社一覧
facebook
Facebook
Instagram
Instagram
X
X
YouTube
YouTube
上へ戻る
エキサイトのおすすめサービス

Copyright © 1997-2024 Excite Japan Co., LTD. All Rights Reserved.