くらし情報『東芝とSK Hynix、ナノインプリント半導体露光技術を共同開発』

2015年2月6日 16:27

東芝とSK Hynix、ナノインプリント半導体露光技術を共同開発

なお、今年4月から、東芝の横浜事業所において、両社の技術者がNILプロセスの要素技術の共同開発を開始し、2017年の実用化を目指すとしている。

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