KLA、5Dパターンコントロールソリューションを拡張

新しく搭載された赤外波長のサブシステム技術により、3D NANDフラッシュデバイスなどで使用される厚い多層積層膜の特性評価が可能。旧世代の「Aleris」プラットフォームに比べてスループットが大幅に向上し、高い生産性を維持しながら、複数のパターン形成プロセスや他の最先端の製造プロセスに関連する多くの積層膜を計測する。

Archer 500LCMおよびSpectraFilm LD10、CDおよびプロファイル計測のプラットフォームを持つ「SpectraShape 9000」、高度なデータ解析処理機能を持つ「K-T Analyzer」、その他の多くのプロセス制御装置と統合されて、KLA-Tencorの包括的な5Dパターンコントロールソリューションをサポートする。