アドバンテスト、1Xnmノード対応の多次元観察・測長走査型電子顕微鏡を発表

さらに、EDAツールとリンクさせ、測長したい場所の情報(座標やパターン形状)をEDAツールから取り込むことが可能。これにより、ホットスポット(マスク側での補正が困難な微細かつ複雑なパターン)部分のより正確な測定が可能になり、マスク開発のスループットの向上に寄与する。

この他、従来機種「E3630」と同様、複数の検出器を並列したマルチディテクタ構成と独自の計測アルゴリズムにより、パターンの幅、高さ、側壁角度をリアルタイムで3D観察および3D計測することができる。

なお、販売開始は2014年6月頃を予定している。