Lam Research、ALDプロセスの製品ラインに原子層エッチングを追加

一方で、ダイナミックRFバイアルは、高いアスペクト比(深く狭い)の機構で素材の除去に必要な指向性エッチングを可能にする。さらに、対称的なチャンバ設計、先進静電チャック技術、および独立プロセスチューニング機構などによって実現される優れた均一性と回復可能性を、引き続き提供する。また、ALE機能は、同社の誘電体膜ALD用VECTOR ALD Oxide製品、およびタングステン金属膜ALD用ALTUSシステムとともに活用され、各原子が重要となる原子スケールのチップ製造への、業界シフトをサポートするとしている。