Lam Research、ALD装置とコンダクタエッチング装置を発表

コンダクタエッチング装置「2300 Kiyo F Series」は、受け入れるウェハに存在する限界寸法(CD)の不均一性の修正にHydra技術を使用して、パターニング変動に対応している。また、システムの対称なチェンバ設計により、本質的に均一なエッチングプロセスが可能となる他、Hydra技術により個所を特定した修正を行って、さらに均一性が向上する。同技術では変動を低減して、上流プロセスでの変動を補正するために、プロプライエタリなハードウェアとソフトウェアを使って、受け入れたCDをマッピングし、ウェハ全体の中から局所的にエッチングプロセス条件を調整できる。

ALD装置「VECTOR ALD Oxide」は、原子スケール蒸着を活用して、均等な厚さで反復性が高く欠陥率の低い、コンフォーマルな膜を提供する。これらの機能は、後のステップのために堆積膜をマスクにし、重要なパターン寸法を定義するスペーサベースの複数パターニングアプローチに欠かせない。また、低温で膜を蒸着できるので、さまざまな素材上でスペーサを形成できる。さらに、ハードウェア設計により高速ガススイッチングが可能になり、競合システムよりも高い生産性を発揮する。