imecが7nmの製造プロセス開発でCoventorと協業 - IEDMでは23件の新技術を発表

ベルギーの半導体・ナノテクノロジー研究機関imecと米国の半導体プロセス開発ツール・サプライヤ「Coventor」は12月7日(米国時間)、半導体デバイスの国際会議「International Electron Device Meeting(IEDM)」の開催に合わせて、両社の共同開発チームが、7nmロジック集積回路だけではなく、3次元NAND型フラッシュメモリ、STT-MRAM(スピン注入磁化反転:spin transfer torqueの原理を用いてデータ書き換えを行う磁気抵抗変化型ランダム・アクセス・メモリ)など、すべての7nmデバイス開発に、Coventerの半導体プロセスモデリング・プラットフォーム「SEMulator3D」を利用し、開発期間の短縮ならびに試作コスト削減を目指した取り組みを進めると発表した。

SEMulator3Dは、フォトマスク作製用の回路パターン・レイアウト図面とプロセス記述表から、自動的に3次元のデバイス構造図を出力する一連のプロセス・モデリング・ソフトウェアで構成されたプロセスモデリング・プラットフォームである(図1)。

imecの次世代プロセス技術開発担当シニアVPのAn Steegen氏は「SEMularoe3Dの力を借りて、7nmの半導体集積化とプロセスの問題を解決することが可能となった。