GFとNY州立大学、EUVリソの実用化を目指す研究に5億ドルを投資

米国ニューヨーク州立大学Polytechnic Institute(SUNY Poly:ニュ―ヨーク州Albany)は2月9日(米国時間)、GLOBALFOUNDRIES(GF)と共同で新たにEUVリソグラフィの実用化を目指す研究センター「AdvancedPatterning and Productivity Center(APPC)」をSUNY Poly傘下の「Colleges of Nanoscale Science and Engineering(CNSE)」キャンパス内に設置したと発表した。

予算は5億ドルで、5年契約のプログラムにより、EUVリソグラフィの半導体量産導入を促進する。IBMおよび東京エレクトロン(TEL)の2社がすでにこのプログラムに参画することを決めているほか、さらにいくつかの企業が参画見込みで、APPC開設に伴い新たに100人の雇用が生ずるという。APPC会員企業は、CNSEキャンパス内のリソグラフィのインフラ(成膜、エッチング、クリーントラック、露光などの各装置)にアクセスする権利が与えられる。

APPCの目的はEUVリソグラフィの量産適用技術の開発を促進することだが、 あらたにオランダASMLの最新型300mm EUVリソグラフィ装置を導入し、7nmおよびそれ以降のプロセス技術を開発することになる。