GFとNY州立大学、EUVリソの実用化を目指す研究に5億ドルを投資

CNSEキャンパス(NonoFab X ビル内)には、すでに ASMLのEUV露光装置「NXE:3300B」が設置されているが、おもにIBMが次世代デバイス開発に使用しているため、新たに2台目のEUV露光装置が導入されることになる。

研究センターは、マスクや材料サプライヤとともにパターニングプロセスの基礎研究を通じてEUVリソグラフィの可能性を広げる。ニューヨーク州MaltaにあるGLOBALFOUNDRIESのFab8で先端製品を製造する準備の一環としてEUV装置の生産能力(スル―プット)を向上させる研究はGLOBALFOUNDRTESが担当する。

GLOBALFOUNDRIESのCTOで研究開発担当上席副社長のGARY PATTON氏は、今回の発表に際して「当社は半導体技術の限界を次々と打破するための積極的なロードマップに沿って研究開発を行っていく。GFはIBMマイクロエレクトロニクス(IBMの半導体部門)を買収したことにより、IBMが引き続き行っている世界最先端の半導体研究に直接アクセスできるようになり、先端プロセス開発のスピードが向上している。今回、SUNY Pplyとともに、新たなセンターを立ち上げることで、プロセス加工寸法を7nmおよびその先へ進めることが可能になる」