くらし情報『いかにしてimecとCadenceは5nmのテストチップをテープアウトしたのか? - imecの設計担当者に聞く』

2015年10月13日 11:57

いかにしてimecとCadenceは5nmのテストチップをテープアウトしたのか? - imecの設計担当者に聞く

これによってM2ラインをカットして所望の回路パターンを得るわけだ。

最初に述べたリソグラフィ手法の(1)では、カットマスクパターンはEUVを用いて1回露光で形成できる。(2)ではカットパターンは193iを用いて多重露光で形成する。(3)ライン形成にもビア形成にもEUV用いる場合は、直接M2パターンを形成できるのでカットマスクパターンは無用である。

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