7nm以降のプロセスは実現できるのか? - imecが進める次世代リソグラフィ開発の現状

○JSRと共同でベルギーにEUVレジスト製造会社を設立

またimecはJSRとEUVリソグラフィ用フォトレジスト製造合弁会社「EUV Resist Manufacturing&QualificationCenter(EUV RMQC)」をベルギー国内に設立した。EUV RMQCは、2015年5月に両社が調印した基本合意書に基づき、半導体リソグラフィ用材料やパッケージング用材料を現地製造しているJSR100%出資の子会社「JSR Micro」が過半を出資し、ベルギー・ルーベン市の同社敷地内に設立された(図1)。

EUVフォトレジストは、JSR Micro敷地内に新設される専用製造ラインで製造され、imecが所有する最先端EUV露光装置(図2)やその他のプロセス装置、imecの所有するノウハウを活用して品質保証が行われる。

EUV RMQCの社長兼JSR Micro取締役工場長であるBart Denturck氏は、「EUVリソグラフィは半導体製造技術が今後も発展していく上で必須の技術である。今後の業界ニーズに応えるべく、グローバルリーダーとして半導体技術の発展を支えてきた2社が互いの技術を持ち寄り従来の発想を超えて取り組む。