imecが10億ユーロを投じ7～5nmプロセス開発向けクリーンルーム棟を開所

世界中の最先端半導体ファブの多くを手掛けている。

増設クリーンルームには、正式な開所前の2016年1月から半導体製造装置(多くは開発段階のアルファ機やベータ機)の搬入が始まっている(図5)。最初に搬入されたのは、日本のアドバンテスト製のEB直接描画装置(図5)で、その後、縦型炉(ASM International製)、 イオン注入装置、重ね合わせ精度測定装置など、最新の製造装置や検査・分析装置の搬送が続いている。

●もともとは450mmウェハ対応を計画していた新クリーンルーム
○もともとは450mmクリーンルームとして計画

imecは、もともと2016年から450mmウェハを用いた7nmプロセス開発のための研究開発パイロットラインを稼働させる計画を2012年に立てていた(図7)。

この計画における第1期計画(2013～2016年)では、既存の300mmクリーンルームで450mmプロセスモジュールをいくつか選択して評価を行い、第2期計画(2017～2020年)で、新たに建設される450mmクリーンルームでフルフロープロセスおよびデバイスを開発することになっていた。

ベルギーのフランダース地方政府は、この計画を支援するためimecの450mmクリーンルーム建設に対して1億ユーロを資金援助することを2012年7月に発表しており、この補助金を呼び水にして、広く世界中の産業界から10憶ドル規模の出資を募ることを計画していた。